- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- 臺(tái)積電、三星、聯(lián)電、中芯，從130nm+到5nm的份額數(shù)據(jù)分析
- 一個(gè)尷尬的事實(shí)：離開美國的技術(shù)/設(shè)備，我們只能制造65nm芯片
- AI 芯片等訂單推動(dòng)，臺(tái)積電 5nm 及 4nm 產(chǎn)能利用率開始回升
- 別相信臺(tái)積電、三星的5nm/3nm工藝，它只是一個(gè)數(shù)字游戲
- 美國最擔(dān)心的事情：日本的光刻機(jī)賣給中國，就能實(shí)現(xiàn)5nm工藝
- 尼康造出7nm光刻機(jī)，佳能押注5nm NIL光刻機(jī)，ASML急不急？
- 臺(tái)積電丟大單！iPhone14產(chǎn)量驟降：5nm沒人用了？
- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- ARM、X86都瑟瑟發(fā)抖？5nm的RISC-V芯片襲來，性能超強(qiáng)
