- 三星加購兩臺High NA EUV光刻機(jī)，增強(qiáng)2nm代工工藝
- 瞄準(zhǔn)Intel 14A工藝，消息稱英特爾加購兩臺High NA EUV光刻機(jī)
- 俄羅斯公布EUV光刻機(jī)路線圖，采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機(jī)路線圖：2036年實(shí)現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級EUV光刻機(jī)：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機(jī)會來了，EUV光刻機(jī)，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時，才要換EUV光刻機(jī)
- ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
- 中國芯的好消息：EUV光刻機(jī)沒有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
- 臺積電認(rèn)慫，還是要買ASML新EUV光刻機(jī)，30億1臺也得買
