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沒有EUV光刻機,也能生產(chǎn)5nm芯片?技術(shù)或在2025年量產(chǎn)

2022-07-27 來源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
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關(guān)鍵詞: 光刻機 晶體管 佳能

用EUV光刻機生產(chǎn)7nm,5nm等高端芯片,是行業(yè)內(nèi)的共識。因為芯片要實現(xiàn)百億根晶體管的數(shù)量,必須使用EUV的極紫外光源,在13.5nm波長的作用下,完成復雜的光刻步驟。


但是日本光刻機巨頭佳能公司展開新的探索,用一項NIL技術(shù),進行15nm以下技術(shù)的研發(fā)。


用這項技術(shù),能生產(chǎn)5nm芯片嗎?如果可以,NIL技術(shù)能取代EUV光刻機嗎?



佳能對高端芯片制造工藝的探索


提到芯片制造,就不得不說起ASML。這個總部位于荷蘭的公司,是全球最大的光刻機制造商。而光刻機作為芯片制造的關(guān)鍵半導體設(shè)備,有著舉足輕重的作用。


一顆芯片在制造過程中,需要通過光刻機完成光刻作業(yè),在涂抹光刻膠的晶圓上,以類似照相機曝光的原理,把芯片線路圖進行復刻。


如果沒有光刻機,那么芯片將無法形成晶體管電路,更別說進行后續(xù)的步驟了。



世界上最頂級EUV光刻機出自ASML之手,這家公司每年能夠生產(chǎn)四五十臺的EUV光刻機,每一臺都被早早預訂,供不應求。


ASML EUV 光刻機采用極紫外光源,波長為13.5nm,是生產(chǎn)7nm及以下制程芯片的必要設(shè)備。但由于只有ASML能生產(chǎn),其它國家如果無法采購EUV光刻機,那便失去了生產(chǎn)7nm,5nm等高端芯片的條件。



企業(yè)資金不足,沒有足夠的EUV光刻機產(chǎn)能,以及受規(guī)則限制等影響,都有可能導致買不到EUV光刻機。這促使很多光刻機廠商展開更多的研究,就像日本光刻機廠商對高端芯片制造技術(shù)進行了探索,計劃用NIL技術(shù)實現(xiàn)高端芯片的量產(chǎn)。


NIL也叫做納米壓印微影技術(shù),原理很簡單,把芯片線路圖提前印制在設(shè)備上,然后用“蓋章”的方式把芯片線路印制在晶圓中。



佳能似乎已經(jīng)掌握了15nm的NIL技術(shù),預計在2025年實現(xiàn)5nm芯片的量產(chǎn)。


沒有EUV光刻機,照樣生產(chǎn)5nm芯片?相信這是很多人對佳能NIL技術(shù)設(shè)備的一種展望,當然,這是建立在一些理論的基礎(chǔ)上。


從理論上來說,NIL技術(shù)的確有可能實現(xiàn)納米級別的芯片印制,至于能否達到5nm,可能就需要等2025年才能進行實際驗證了。不過佳能進行的這項技術(shù)探索有很大的前瞻性和創(chuàng)新意義。



傳統(tǒng)芯片制造產(chǎn)業(yè)中,除了使用EUV光刻機之外,沒有別的方式造出7nm,5nm等高端芯片。


這導致ASML占據(jù)中高端光刻機市場的壟斷地位,而且EUV光刻機含有大量的美國技術(shù)。美國按照自己的心意,隨意調(diào)整EUV光刻機的自由出貨狀態(tài),讓一些國家市場買不到貨。


EUV光刻機對電力的消耗非常巨大,一臺設(shè)備平均每天耗電量高達3萬度。



相比DUV光刻機,EUV光刻機的耗電量增長了10倍。所以臺積電大量購置EUV光刻機,對電力資源本身就是一種考驗。而佳能的NIL技術(shù)設(shè)備,能耗大大降低,耗電量只有EUV光刻機的10%。


NIL技術(shù)能取代EUV光刻機嗎?


EUV光刻機在半導體制造業(yè)的地位非常高,人類經(jīng)歷了二三十年的研究,上百家科研機構(gòu)和各國頂級科技的加持,成功讓ASML造出了EUV光刻機。


想要用另一種方式實現(xiàn)5nm芯片制造,先不說是如何做到的,如果是真的,佳能NIL技術(shù)能取代EUV光刻機嗎?或許不太可能,NIL技術(shù)的出現(xiàn)最多只是一個補充,無法完全取代EUV光刻機。



原因很簡單,因為等佳能利用NIL技術(shù)造出5nm芯片時,最快也是2025年的事情了。到時候ASML交付市場客戶的EUV光刻機數(shù)量至少有四五百臺左右。


這么多的EUV光刻機足以遍布芯片制造商的生產(chǎn)線,該買的EUV光刻機都買的差不多了。一旦生產(chǎn)線飽和,很難容納新的設(shè)備進入。


而且新設(shè)備需要調(diào)試,需要大量的時間進行驗證。一個是經(jīng)過工程師準確調(diào)試,生產(chǎn)無誤的EUV光刻機,另一個是不知產(chǎn)能,性能水準的新設(shè)備,芯片制造商會如何選擇一目了然。



當然,作為補充的話,NIL設(shè)備的耗電量以及設(shè)備投資還是比較吸引人的。EUV光刻機太貴了,也不是所有國家都能買得到,因此NIL設(shè)備對一些無法采購到EUV光刻機的制造商來說,或許是一種解決方案。


寫在最后


對于佳能這樣一臺設(shè)備,一旦成功量產(chǎn),還能實現(xiàn)5nm芯片生產(chǎn)的話,有可能改變半導體制造業(yè)的格局。其官宣或在2025年量產(chǎn)可用于5nm芯片生產(chǎn)的設(shè)備,不過一切還需要靜觀其變,在此之前,國產(chǎn)也得繼續(xù)努力。



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